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Mini CVD

글로브박스 연계형 소형 CVD·열처리 장치

Mini CVD
01 / 제품 개요

제품 개요

Mini CVD는 석영관과 플랜지를 일체형 모듈로 구성한 소형 튜브 퍼니스입니다. 석영관·플랜지 모듈만 글로브박스에 반입할 수 있으며, 본체는 일반 연구실의 대기 환경에 설치합니다. 비활성 가스 또는 공정 가스 분위기에서 CVD와 열처리 실험에 활용할 수 있습니다.

모델·옵션별 적용 범위는 문의 시 확인해 주세요.

02 / 제품 특징

제품 특징

  • 01글로브박스 연계: 석영관·플랜지 일체형 모듈만 반입하는 구조
  • 02분위기 제어: 아르곤·산소·메탄 등 공정에 맞는 가스 공급과 진공펌프 배기
  • 03전구체 공급: 캐니스터·버블러 방식, 최대 4개 가스 라인 구성
  • 04프로그램 온도 제어: 설정한 온도 프로그램에 따른 가열 공정
  • 05소형 CVD·열처리 겸용: 연구실에서 소재 합성·증착·열처리 실험에 활용
03 / 주요 사양

주요 사양

Mini CVD의 주요 사양
모델TLP-1008-MF
장치 형식소형 분할형 튜브 퍼니스
적용 공정CVD / 열처리
석영관 직경Ø40 mm (내·외경 구분은 문의 시 확인)
석영관 길이400 mm
글로브박스 반입 대상석영관·플랜지 일체형 모듈
밀봉 방식바이톤(Viton) 링
밀봉부 허용 온도150 °C (가열부 사용 온도와 구분)
사용 가스아르곤 / 산소 / 메탄 등
최대 가스 유량1,000 sccm (라인별·전체 유량 기준은 문의 시 확인)
가스 유량 제어유량계 / MFC(선택 사양)
배기 방식진공펌프
전구체 공급 방식캐니스터 / 버블러
가스 라인 수최대 4개
온도 제어프로그램 제어
최고 가열 온도1100 °C (1시간 미만)
연속 가열 온도900 °C
전체 가열 구간184 mm
균일 온도 구간60 mm (±1 °C), 900 °C 기준
전원AC 220 V
소비 전력2 kW
본체 설치 환경일반 연구실의 대기 환경
04 / 적용 분야

적용 분야

  • 열처리
  • 화학기상증착(CVD)
05 / 선택 옵션

선택 옵션

진공 게이지
MFC(디지털 표시 장치 포함)
진공 펌프
06 / 이미지·구조도

제품 이미지·구조도

Mini CVD 후면
Mini CVD 후면
Mini CVD 시스템 구성
Mini CVD 시스템 구성

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